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PCB多层板内层黑化处理

来源:未知      作者:BC      发布日期:2018-01-02     

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[导读] PCB多层板等电路板黑氧化方法主要有,棕氧化法,黑氧化处理,低温黑化法,高温黑化法这几种,下面由整理其基本原理及处理工序,有需要的了解一下。

PCB多层板都是由内层芯板与半固化片、铜箔预叠后压合而成,而压合前必不可少的步骤就是黑化。黑化可以钝化铜面,增强内层铜箔的表面粗化度,进而增强环氧树脂与内层铜箔之间的结合力,下面介绍PCB多层板内层黑化处理工序。
 
一、一般内层处理的黑氧化方法:
棕氧化法
黑氧化处理
低温黑化法
采用高温黑化法内层板会产生高温应力(thermal stress)可能会导致层压后的层间分离或内层铜箔的裂痕;
 
二、棕氧化:
黑氧化处理的产物主要是氧化铜,没有所谓的氧化亚铜,这是业内的一些错误论调,经过ESCA(electro specific chemical analysis)分析,可以测定铜原子和氧原子之间的结合能,氧化物表面铜原子和氧原子之间的比例;有清晰数据和观察分析证明黑化的产物就是氧化铜,没有其他成分;
 
三、黑化液的一般组成:
氧化剂、亚氯酸钠、氢氧化钠、PH缓冲剂、磷酸三钠、表面活性剂或碱式碳酸铜的氨水溶液(25%氨水)
四、有关的数据
1、氧化物的重量(oxide weight):可以通过重量法测量,一般后控制在0。2---0。5mg/cm2
2、抗撕强度(peel strength):1oz铜箔按照2mm/min的速度,铜箔宽1/8英寸,拉力应该5磅/吋以上
3、通过相关的变数分析(ANDVA: the analysis of variable )影响抗撕强度的显著因素主要有:
①亚氯酸钠的浓度
②氢氧化钠的浓度
③亚氯酸钠与磷酸三钠浓度的交互作用
④磷酸三钠与浸渍时间的交互作用
氧化物的针状结晶的长度以0.05mil(1—1.5um)为最佳,此时的抗撕强度也比较大;
抗撕强度取决于树脂对该氧化物结晶结构的填充性,因此也与层压的相关参数和树脂pp的相关性能有关。
 

    
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